Lenntech <!-- PLUGIN:LANGUAGE:water_treatment_and_purification --> Lenntech <!-- PLUGIN:LANGUAGE:water_treatment_and_purification -->

جهاز ثاني أكسيد الكربون

مولدثانيأكسيدالكربون
لوحةالتحكمومعايرةالمضخات
75 غ/سا

مولّدات ثاني أكسيد الكربون للانتاك يمكن أن تتنج ما يصل إلى  150  غ/سا لزراعة البساتين , و لتطهير  المياه المعبأة في زجاجات و لعملية تنظيف في المكان .

 ClO2

تركيزات

0.2 إلى 2.5 مغ/ل

كمية تدفق المياه

إيى 100 م3/سا
الكاشف 1 Purogene (NaClO2 at 3.36%)
الكاشف 2 HCl 15%

   يشمل جهاز ClO2  :

 -2معايرة المظخات

- 1 عاء التفاعل (إختياري)l

المسبار الأكسدة (إختياري)

 - 1 حجرة المظخة
- 1 حجرة المراقبة
- 1 جهاز قياس تدفق المياه(إختياري)

- 1 خلاّط ثابت


- برامليل كيمياوية
 الحاويات الثانوية

نوصي بشدة إضافة جهاز ClO2 قياس  على الخط لمراقبة تركيز  ClO2  .

 

 

أكثر على  تطهيرClO2 التركيزات الموصى بها:

زراعة البساتين: 2.5 مغ/ل
المياه المعبأة في زجاجات : 0.2 مغ/ل
 مياه الشرب: 0.8 مغ/ل حد أقصى.


 تثبيت نموذ جي لحقن   ClO2 

About Lenntech

Lenntech BV
Rotterdamseweg 402 M
2629 HH Delft

tel: +31 152 610 900
fax: +31 152 616 289
e-mail: info@lenntech.com


Copyright © 1998-2016 Lenntech B.V. All rights reserved